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磁控溅射镀膜五月婷婷俺也去开心 真空磁控溅射镀膜机 五月婷婷俺也去开心五月婷婷俺也去开心

磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多五月色婷婷综合开心网,且具有五月婷婷俺也去开心简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,而上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

 

磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜,而产生的二次电子会受到电场和磁场作用,产生E(电场)×B(磁场)所指的方向漂移,简称E×B漂移,其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场,则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动,它们的运动路径不仅很长,而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内,并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材,从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加,二次电子的能量消耗殆尽,逐渐远离靶表面,并在电场E的作用下最终沉积在基片上。由于该电子的能量很低,传递给基片的能量很小,致使基片温升较低。

磁控/蒸发两用镀膜五月婷婷俺也去开心:

此五月婷婷俺也去开心利用磁控溅射阴极辉光放电将原子(靶材)离化沉积在基材上(物理气相沉积PVD)和真空中利用电阻加热法将金属丝熔融或金属分子汽化,对基材表面进行金属化、利用特定薄膜涂层实现产品不导电和电磁屏蔽的作用,以满足现行手机的高端电子产品制造行业标准.

 

五月婷婷俺也去开心集中了等离子体处理,高端阴极磁控溅射,、电阻蒸发镀膜装置,大装载量转架和自动化控制技术,工作可靠、重复性一致性良好、沉积速率高快,附着力好,膜层品质细腻等,镀制的薄膜致密硬度高,磨擦系数低,可保持原有工件表面光洁,具有韧性好,不易破裂脱落。五月婷婷俺也去开心实现镀膜工艺全自动化控制。在基材表面利用真空镀膜方法进行涂层,具有生产成本低、产品合格率高、绿色环保等特点,主要适用于电脑、手机、高端工业(家用)电子电器、航空等领域。

 

真空镀膜是一种产生薄膜五月色婷婷综合开心网的技术。在真空室内五月色婷婷综合开心网的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。

其工艺流程一般如下:  

  1、表面处理:通常,镀膜之前,应对基材(镀件)进行除油、除尘等预处理,以保证镀件的整洁、干燥,避免底涂层出现麻点、附着力差等缺点。对于特殊五月色婷婷综合开心网,如PE(聚乙烯)料等,还应对其进行改性,以达到镀膜的预期效果。 

  2、底涂:底涂施工时,可以采用喷涂,也可采用浸涂。UV或者PU,具体应视镀件大小、形状、结构及用户五月婷婷俺也去开心等具体情况及客户的质量要求而定。 

  3、底涂烘干:根据不同基材及要求,A:UV光固化。B:PU通常烘干的温度为80℃-140℃,时间约40分钟-120分钟。烘干完成的要求是漆膜完全干燥。 

  4、镀膜:镀膜时,应保证镀膜机的真空度达到要求后,再加热钨丝,并严格控制加热时间。同时,应掌握好镀膜用金属(如铝线)的量,太少可能导致金属膜遮盖不住底材,太多则除了浪费外,还会影响钨丝寿命和镀膜质量。 

  5、面涂:通常面涂的目的有以下两个方面:A、提高镀件的耐水性、耐腐蚀性、耐磨耗性;B、为水染着色提供可能。若镀件不需着色,视客户要求,可选用哑光油、透明油、等面油涂装。 

  6、面涂烘干:通常面涂层较底涂层薄,故烘干温度较低,约70-110℃,时间约40~120分钟,用户可根据实际情况灵活把握,最终应保证面涂层彻底干燥。如果镀件不需着色,则工序进行到此已经结束。

  7、水染着色:如果镀件需要进行水染着色,则可将面漆已经烘干的镀件放进染缸里,染上所需颜色,之后冲洗晾干即可。染色时要注意控制水的温度,通常在35~80℃左右,同时应控制好水染的时间。水染着色的缺点是容易褪色,但成本较低。各种水染色粉我公司有配套销售,具体工艺技术使用请咨询邓工

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